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      3. CVD氣相沉積
        • 旋轉等離子增強CVD化學沉... 旋轉等離子增強CVD化學沉積系統十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾,旋轉等離子增強CVD...
        • 雙溫區滑道旋轉管式爐CVD... 雙溫區滑道旋轉管式爐CVD系統十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾,雙溫區滑道旋轉管式爐C...
        • 等離子增強物理化學氣相沉積... 等離子增強物理化學氣相沉積HPCVD包括一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計系統,等離...
        • 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置包括三溫區管式爐,特殊設計的爐管及配套氣路一組,晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置通過特殊設計的管...
        • 高真空迷你cvd實驗室設備 高真空迷你cvd實驗室設備核心是一款迷你管式爐,采用電阻絲加熱,設備*高溫度可達1200℃,高真空迷你cvd實驗室設備采...
        • 卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備,該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續生長
        • ?單溫區旋轉PECVD石墨... ?單溫區旋轉PECVD石墨烯制備廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學實驗上,該單溫區旋轉PECVD石墨烯制備適合顆粒型樣品...
        • 1200℃單溫區3路質量供... 1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區3路質...
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