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      3. 產品列表
        • 傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺與靶面的角度可調,可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別,大大減少了...
        • 桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀...
        • 小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀 小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,該小小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀配150W直流電源,可用于金...
        • 桌面單靶磁控濺射鍍膜儀(鍍... 桌面單靶磁控濺射鍍膜儀(鍍鋁型)?是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,該桌面單靶磁控濺射鍍膜儀(鍍鋁型)?配500W高性...
        • 小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜... 小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,該小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀配150W直流電源,可用于...
        • 小型雙靶磁控濺射鍍膜儀 小型雙靶磁控濺射鍍膜儀設備配有一個直流電源一個射頻電源,直流靶可用于金屬及其他導電材料的濺射,射頻電源可用于各種非金屬和...
        • 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜,該帶偏壓...
        • UPS三靶磁控濺射真空鍍膜... UPS三靶磁控濺射鍍膜儀體積小,操作簡便,是實驗室制備材料膜的理想鍍膜設備,UPS三靶磁控濺射鍍膜儀采用UPS16節電池...
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