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      3. 產品詳情
        • 產品名稱:四路質子混氣管式pecvd系統

        • 產品型號:TN-O1200-60-4CLV-PE
        • 產品廠商:泰諾
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        等離子體增強型化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜生長的一種制備技術。我公司綜合了多項實驗要求設計生產了四路質子混氣管式pecvd系統,能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯制備、C納米材料制備、氧化物制備。四路質子混氣管式pecvd系統一款****的薄膜制備器材
        詳情介紹:

        ○ 產品介紹

        等離子體增強型化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜生長的一種制備技術。我公司綜合了多項實驗要求設計生產了四路質子混氣管式pecvd系統,能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯制備、C納米材料制備、氧化物制備。是一款****的薄膜制備器材


        ○ 適用范圍

        能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯制備、C納米材料制備、氧化物制備。是一款****的薄膜制備器材


        ○ 技術參數

        產品特點

        與普通的CVD系統相比,因為有等離子源的介入,系統的沉積溫度相對較低。配備有滑軌式管式爐可以輕松實現快速降溫,實現快速退火。操控界面可配備液晶操作系統,圖文顯示,直觀易懂,對于設備的使用操作簡單易學該系統較高工作溫度接近1150℃,能滿足大多數熱處理場合。該設備可具體用于:碳、ZnO納米管或納米線的制備也可以用于制備單層石墨烯以及各種CVD實驗。

        等離子發生器

        輸出功率:5~500W±1%.射頻頻率:13.56 MHz±0.005%.反射功率:較大約200W阻抗匹配:自動

        真空泵機組

        雙極旋片泵,極限真空0.1PaKFD25快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連.管內真空可達1Pa可選:本公司進口的防腐型數字式真空顯示計,其測量范圍為3.8x10-5至1125 Torr.不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。(需要另外計算費用

        質量流量計

        三通道的質量流量計(精度0.02%):數字顯示,自動控制.MFC 1范圍:0~100 sccmMFC 2和3:0~500 sccm一個混氣罐,底部裝有泄廢液口.進氣接口:1/4NPS.出氣接口:1/4NPS.

        水冷系統

        水冷法蘭要求:水流量>=10L/M,配有專業水冷機組。

        管式爐

        爐管直徑:80mm爐管長度:1400mm爐膛長度:440mm控溫精度:±1℃工作溫度:≦1200℃



        ○免責聲明

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