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      3. 產品詳情
        • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

        • 產品型號:
        • 產品廠商:泰諾
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
        詳情介紹:

        該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFEPI等柔性襯底上鍍膜.

        電子束蒸發方式鍍膜儀設備技術參數

        使用條件

        環境溫度

        5℃~40

        電源

        380V

        功率

        20KW

        水壓

        2.5bar

        真空室尺寸

        蒸發室尺寸

        φ500×H500()

        過渡倉庫

        φ280×H300()

        電子槍

        新型電子槍1套,6穴坩堝

        離子源

        考夫曼離子源K08一套

        樣品轉盤

        樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

        系統真空度

        極限真空

        12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

         

        抽氣速率

        從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

         

        系統漏率

        整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

        抽真空系統

        TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

        鍍膜監測

        采用TM160膜厚儀進行監測

        鍍膜厚度的不均勻度

        ≤3%

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