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      3. 產品詳情
        • 產品名稱:偏置靶型單靶磁控鍍膜儀

        • 產品型號:CY-MSP300G-RB
        • 產品廠商:泰諾
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        偏置靶型單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。偏置靶型單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗
        詳情介紹:

        本設備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側,濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。

        偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術參數:

        CY-MSP300G-RB rotate bias) 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀

        樣品臺

        尺寸

        φ150mm

        轉速

        轉速0-20rpm可調

        磁控濺射靶

        數量

        2” x1  偏置于腔體一側

         

         

        真空腔體

        腔體尺寸

        φ300mm X 200mm

        觀察窗口

        全向可視

        腔體材料

        高純石英

        開啟方式

        頂蓋拆卸式

        下法蘭

        裝有旋轉式樣品臺及進出氣口

        真空系統

        機械泵

        雙級旋片泵

        抽氣接口

        KF16

        分子泵

        渦輪分子泵

        抽氣接口

        KF40

        真空測量

        電阻規+電離規復合真空計

        排氣接口

        KF40

        極限真空

        1.0E-3Pa

        供電電源

        AC 220V 50/60Hz

        抽氣速率

        前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S

        電源配置

        數量

        直流電源 x1

        *大輸出功率

        直流電源300W

         

        其他

        供電電壓

        AC220V,50Hz

        整機尺寸

        500mm X 320mm X6200mm

        整機功率

        2kW

         

         

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