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      3. 產品詳情
        • 產品名稱:桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀

        • 產品型號:CY-MSP190S-1T-RF
        • 產品廠商:泰諾
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源,尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。
        詳情介紹:

        本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源,尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。

        本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

        單靶磁控鍍膜儀技術參數:

        產品名稱

        桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

        產品型號

        CY-MSP190S-1T-RF

        安裝條件

        1、使用環境溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh;

        2、設備供電:AC220V,50Hz,必須有良好接地;

        3、額定功率:1500w(整機含電源);

        4、設備用氣:設備腔室內需充注氬氣清洗,需客戶自備氬氣,純度 ≥99.99%;

        5、擺放工作臺尺寸要求 600mm×600mm×700mm,承重 80kg 以上;

        6、擺放位置要求通風散熱良好。

        技術參數

        1、 濺射電源:射頻電源300W;*大輸出電壓600V,極限輸出電流500mA

        2、 磁控靶:2英寸平衡靶,配磁耦合擋板;

        3、 磁控靶適用靶材: φ50mm x 3mm厚

        4、 腔體尺寸:外徑φ194mm ,內徑186mm x 高230mm;

        5、 腔體材質: 304不銹鋼

        6、 旋轉加熱樣品臺:轉速1~20rpm  連續可調;加熱溫度*高500℃,升溫速度推薦10/min,*高20/min

        7、 冷卻方式:磁控靶及分子泵需要循環水冷機;

        8、 水冷機:水箱容積9L,流速10L/min

        9、 供氣系統:質量流量計, 氣體類型Ar氣,流量1~100sccm(可定制);

        10、 流量計精度:±1.5%量程

        11、 真空腔體抽氣接口為 KF40;

        12、 進氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭;

        13、 顯示屏為7英寸彩色觸摸屏;

        14、 可調節濺射電流,可設置濺射安全電流值、安全真空值;

        15、 安全保護:過流、真空過低自動切斷濺射電流;

        16、 極限真空:5E-4Pa(搭配分子泵);

        17、 真空測量為電阻規真空計,其量程為:1~105Pa

        注意事項

        1、磁控濺射工作真空較高,一般在2Pa之內,需要配分子泵使用。

        2、為了達到較高的無氧環境,至少要用高純惰性氣體對真空腔體清洗 3 次。

        3、磁控濺射對進氣量比較敏感,需要使用質量流量計控制進氣量

        可選配件

        膜厚監測儀

        1、膜厚分辨率:0.0136?(鋁)

        2、膜厚準確度:±0.5%,取決于過程條件,特別是傳感器的位置, 材料應力,溫度和密度

        3、測量速度:100ms-1s/次,可設置測量范圍:500000?(鋁)

        4、標準傳感器晶體:6MHz

        5、適用晶片頻率:6MHz 適用晶片尺寸:Φ14mm 安裝法蘭:CF35

        其他配件

        1、CY-CZK103系列高性能分子泵組(含復合真空計,測量范圍10-5Pa~105Pa);

        CY-GZK60系列小型分子泵組(含復合真空計,測量范圍10-5Pa~102Pa

        VRD-4雙極旋片真空泵

        2、KF40真空波紋管;長度可選0.5m、1m、1.5m;KF40卡箍支架

        3、膜厚儀晶振片;


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